Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

Name: Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
Brand: Taylor & Francis Ltd
SKU: 9781032386737
Price: 309.29 PLN
Availability: InStock

Autor: Oluwatobi Adeleke, Sina Karimzadeh, Jen, Tien-Chien (University of Johannesburg, South Africa)

Język:

Oprawa: Miękka

Wydawca: Taylor & Francis Ltd

Dostępność: Dostępna u dostawcy

Wysyłamy za 9-15 dni

309.29 zł

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposit...

Informacje o książce

Autor

Oluwatobi Adeleke, Sina Karimzadeh, Jen, Tien-Chien (University of Johannesburg, South Africa)

Język

Angielski

Oprawa

Książka - Miękka

Data wydania

2025

strony

354

EAN

9781032386737

Enbook ID

48234675

Wydawca

Taylor & Francis Ltd

Waga

700

Wymiary

156 x 234

Pełny opis

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

Możesz być zainteresowany

Klienci, którzy kupili tę książkę, kupili również

Najczęściej wyszukiwane

Categories

Authors

Publishers

Produkty

Produkty

Najczęściej wyszukiwane

Categories

Authors

Publishers

Produkty

Produkty

Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

Informacje o książce

Pełny opis

Możesz być zainteresowany

Klienci, którzy kupili tę książkę, kupili również