Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
Autor:
Oluwatobi Adeleke, Sina Karimzadeh, Jen, Tien-Chien (University of Johannesburg, South Africa)
Dostępność:
Dostępna u dostawcy
Wysyłamy za 9-15 dni
1 030.51
zł
This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposit...
