Książka Defects in Boron Ion Implanted Silicon W K Wu

Defects in Boron Ion Implanted Silicon

Autor: W K Wu
Język: Angielski
Oprawa: Miękka
Wydawca: Biblioscholar
Dostępność: Dostępna u dostawcy
Wysyłamy za 14-21 dni
233.81
The Office of Scientific & Technical Information (OSTI), is a part of the U.S. Department of Energy...

Informacje o książce

Autor
Język
Angielski
Oprawa
Książka - Miękka
Data wydania
2013
strony
120
EAN
9781288823055
ISBN
9781288823055
Enbook ID
08281630
Wydawca
Waga
227
Wymiary
189 x 246 x 6

Pełny opis

The Office of Scientific & Technical Information (OSTI), is a part of the U.S. Department of Energy (DOE) that houses research and development results from projects funded by the DOE. The information is generally an article, technical document, conference paper or dissertation. This is one of those publications.

Możesz być zainteresowany

Internet governance for sustainable human, economic and social development

United Nations: Department of Economic and Social Affairs
182.44
119.75

Trucks

James Nixon
146.82

The Art of Adapting

Cassandra Dunn
50.28
73.50
30.40
478.85
60.61

Love Hurts

Misty A James
71.93
40.34

Apocatastasis

Emil Lips
178.11

Enjoy Your Symptom!

Slavoj Žizek
129.20

Klienci, którzy kupili tę książkę, kupili również

50.87

Little

David Treuer
56.67

Le rugby 3e Pour les nuls

François Duboisset
119.06
74.88
61.79

Gamlet, prync Dans'kyj

William Shakespeare
98.79
40.14
185.00
91.41