Książka Atomic Layer Deposition Tommi Kaariainen

Atomic Layer Deposition

Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications

Język: Angielski
Oprawa: Twarda
Dostępność: Dostępna u dostawcy
Wysyłamy za 9-15 dni
887.69
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerf...

Informacje o książce

Język
Angielski
Oprawa
Książka - Twarda
Data wydania
2013
strony
272
EAN
9781118062777
ISBN
1118062779
Enbook ID
04949772
Waga
582
Wymiary
240 x 164 x 25

Pełny opis

Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.

Możesz być zainteresowany

1 210.24
785.94
55.53
115.94
634.01

Assassin's Game

Gov Dan Walker
57.19
500.65
2 510.67

Klienci, którzy kupili tę książkę, kupili również

Werbetexte/R

Regina Karl
113.12

Design de Superfície

Christie Meditsch
201.15

Zurcher Kantonalbank

Heinrich Eduard Nüscheler
146.48
110.00