Plasma Etching: Fundamentals and Applications

Autor: 
Język: 
english
Oprawa: 
Twarda
Liczba stron: 
356
This book focuses on the remarkable recent advances in understanding low pressure radio frequency glow discharges. It explains the basic analytical theory, plasma physics, and plasma diagnostics, befo ...Cały opis
1 162,73 zł

Szczegółowe informacje

Więcej informacji
ISBN9780198562870
AutorSugawara Minoru
WydawcaOxford Univ Pr
Językenglish
OprawaPevná vazba
Rok wydania1998
Liczba stron356

Opis książki

This book focuses on the remarkable recent advances in understanding low pressure radio frequency glow discharges. It explains the basic analytical theory, plasma physics, and plasma diagnostics, before proceeding to the details of the etching process.

 

  1. velký výběr

    SZEROKI WYBÓR

    Oferujemy ponad milion pozycji anglojęzycznych – od literatury pięknej po specjalistyczną .

  2. poštovné zdarma

    DARMOWA WYSYŁKA

    Darmowa wysyłka do Paczkomatu od 299 zł.

  3. skvělé ceny

    ATRAKCYJNE CENY

    Staramy się by ceny książek były na jak najniższym poziomie, zawsze poniżej ceny zalecanej przez wydawcę. Wszystko po to, by każdy mógł sobie pozwolić na zakup.

  4. online podpora

    14 DNI NA ZWROT

    Zakupione u nas książki możesz zwrócić do 14 dni, bez podawania powodów. Wystarczy nas o tym poinformować drogą e-mailową i odesłać książki pod nasz adres, a my zwrócimy pieniądze.